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J-GLOBAL ID:200903001238512435

半導体ウエハの熱処理用縦型ボート

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木下 茂
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004259468
Publication number (International publication number):2006080125
Application date: Sep. 07, 2004
Publication date: Mar. 23, 2006
Summary:
【課題】 半導体ウエハを保持する保持段部を、上下方向に同一直線上に配置されないようにし、半導体ウエハの被保持部が保持段部によって挟まれないように形成することによって、半導体ウエハの被保持部の汚染を抑制した半導体ウエハの熱処理用縦型ボートを提供する。【解決手段】 複数の半導体ウエハを支持段部上に載置する半導体ウエハの熱処理用縦型ボートであって、半導体ウエハを支持、載置するための一の支持段部11a2,11b2,11c2が、前記一の支持段部に近接する支持段部11a2と11a3,11b2と11b3,11c2と11c3が重ならないように形成されている。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
複数の半導体ウエハを支持段部上に載置する半導体ウエハの熱処理用縦型ボートであって、半導体ウエハを支持、載置する一の支持段部が、前記一の支持段部に近接する支持段部と重ならないように形成されていることを特徴とする半導体ウエハの熱処理用縦型ボート。
IPC (3):
H01L 21/683 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/324
FI (3):
H01L21/68 N ,  H01L21/22 511G ,  H01L21/324 Q
F-Term (6):
5F031CA02 ,  5F031HA63 ,  5F031HA64 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031PA26
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 熱処理用ボート
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-031315   Applicant:東京エレクトロン東北株式会社
  • 半導体ウエハの熱処理用縦型ボート
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平9-205373   Applicant:東芝セラミックス株式会社, 株式会社東芝

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