Pat

J-GLOBAL ID：200903001240836221

照射装置

Inventor： 天明 良治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995338964
Publication number (International publication number)：1997179171
Application date： Dec. 26, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】 構成の大型化を招くことなく、照射効率の良い照射状態可変な照射装置を提供する。【解決手段】 光を投光するための投光手段と、該投光手段からの光を所定の配光特性で配光する配光部材と該配光部材に対する前記投光手段の投光方向を変化させるための可変手段を有し、前記投光方向の変化により照射状態を変化させることを特徴としている。

Claim (excerpt)：

光を投光するための投光手段と、該投光手段からの光を所定の配光特性で配光する配光手段と該配光手段に対する前記投光手段の投光方向を変化させるための可変手段とを有することを特徴とする照射装置。