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J-GLOBAL ID：200903001250086530

分解対象ガス分解装置

Inventor： 中澤 美和 ,  保坂 明仁 ,  宮村 啓祐 ,  太田 俊
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003359222
Publication number (International publication number)：2005120054
Application date： Oct. 20, 2003
Publication date： May. 12, 2005
Summary：

【課題】 反応生成物を反応空間に溜めないようにすることを目的とする。【解決手段】 反応生成物液体を回収保持できるように容器を傾けて配置する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

塩素ガスを発生させる塩素ガス導入手段と、前記塩素ガスと分解対象物質ガスとの混合ガスを収容する容器と、前記容器内の前記混合ガスに光を照射する光源とを有する分解対象ガス分解装置において、 前記容器は混合ガスを導入する入口とガスを排出する出口とを有し、且つ入口側以外で反応生成液体を回収保持できるように傾いて配置されていることを特徴とする分解対象ガス分解装置。

IPC (4)：

C07B35/06 ,  B01D53/32 ,  B01J19/12 ,  C07B37/06

FI (4)：

C07B35/06 ,  B01D53/32 ,  B01J19/12 C ,  C07B37/06

F-Term (13)：

4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075AA63 ,  4G075BA05 ,  4G075BB05 ,  4G075BD12 ,  4G075CA32 ,  4G075CA57 ,  4G075EB21 ,  4H006AA05 ,  4H006AC13 ,  4H006AC26 ,  4H006BA95

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 汚染物質の分解方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-354344   Applicant：キヤノン株式会社