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J-GLOBAL ID：200903001252848322
化学吸着膜の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
池内 寛幸 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991312206
Publication number (International publication number)：1993031356
Application date： Nov. 27, 1991
Publication date： Feb. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 表面に活性水素基を有する基材に化学吸着剤を反応させるに際し、化学吸着剤を溶解した溶液に超音波を付与し、これに基材を浸漬することにより、ピンホールがなく高密度の化学吸着膜を短時間で製造する。【構成】 超音波を加えた状態で、一端にクロロシリル基を有する化学吸着剤1を基材4の表面に吸着させ、単分子膜5を形成する。超音波処理は、発振周波数領域25kHz〜50kHzの範囲が好ましい。また、単分子膜形成後、基材を洗浄溶液に浸漬し超音波を加えて洗浄することにより、効率的に基材上に残った未反応の化学吸着剤分子を洗浄除去する。このような超音波処理は、単分子吸着膜の製造にもポリマー吸着膜の製造にも適用できる。
Claim (excerpt)：
表面に活性水素基を有するか、または活性水素基を付与した基材表面に化学吸着単分子膜を形成する方法において、少なくとも下記[A]〜[C]の工程からなることを特徴とする化学吸着膜の製造方法。[A] まず前記基材表面の活性水素基と反応する官能基を末端に有する化学吸着剤を、非水系有機溶媒に溶解して吸着液とする工程。[B] 次いで、前記吸着液に超音波を加えた状態で前記基材を前記吸着液に浸漬し、前記基材表面に前記化学吸着剤分子を吸着させる工程。[C] その後、非水系有機溶媒で基材表面の未反応化学吸着剤を洗浄・除去する工程。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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