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J-GLOBAL ID：200903001253897556

結晶性水素化シルセスキオキサンの製造方法

Inventor： 道野 哲行 ,  レスリー アール カーペンター セカンド ,  グレッグ アラン ザンク
Applicant, Patent owner： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000272021
Publication number (International publication number)：2002088156
Application date： Sep. 07, 2000
Publication date： Mar. 27, 2002
Summary：

【要約】【課題】 結晶性水素化シルセスキオキサンが高い収率で、かつ簡単に製造する方法を提供すること。【解決手段】 a)有機相は水不溶性有機溶剤からなり、水相は25質量%以上の濃度の塩酸水溶液に有機スルホン酸またはその塩からなる界面活性剤(濃度36質量%の塩酸水溶液に5質量%以上溶解可能なもの)を溶解してなる、有機相と水相の2相系を用意し、b)前記2相系に攪拌下でトリクロロシランを添加して、それを水相中あるいは有機相中で加水分解および縮合して水素化シルセスキオキサンを生成し、c)こうして得られる水素化シルセスキオキサンを含む前記有機相から結晶性水素化シルセスキオキサンを分離する。

Claim (excerpt)：

a)有機相は水不溶性有機溶剤からなり、水相は25質量%以上の濃度の塩酸水溶液に有機スルホン酸またはその塩からなる界面活性剤(但し、HCl濃度が36質量%の塩酸水溶液に5質量%以上溶解できるものに限られる。)を溶解してなる、有機相と水相の2相系を準備し、b)前記2相系に攪拌下でトリクロロシランを添加して、それを水相中及び/又は有機相中で加水分解および縮合して水素化シルセスキオキサンを生成し、c)こうして得られた水素化シルセスキオキサンを含む前記有機相から結晶性水素化シルセスキオキサンを分離する工程を含むことを特徴とする結晶性水素化シルセスキオキサンの製造方法。

IPC (2)：

C08G 77/06 ,  C08G 77/12

FI (2)：

C08G 77/06 ,  C08G 77/12

F-Term (4)：

4J035BA12 ,  4J035CA021 ,  4J035EA00 ,  4J035EB08