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J-GLOBAL ID：200903001254072739

レーザーアブレーション装置用の試料室およびレーザーアブレーション装置

Inventor： 福田 啓一 ,  大石 昌弘
Applicant, Patent owner： TDK株式会社
Agent (3)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  阿部 豊隆
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003123896
Publication number (International publication number)：2004325390
Application date： Apr. 28, 2003
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

【課題】分析装置への導入効率が高いレーザーアブレーション装置用の試料室およびレーザーアブレーション装置を提供すること。【解決手段】レーザーアブレーション装置用の試料室4は、対向する側壁4a,4bに駆動手段50がそれぞれ接続されており、この駆動手段50によって側壁4a,4bが試料9に対して近づく或いは遠ざかる方向(図中、左右方向)に移動可能となっている。これにより、試料室4は、側壁4a,4bの移動によって内部空間の容積が変化可能となっている。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

内部空間に測定対象の試料が配置されるレーザーアブレーション装置用の試料室であって、 前記内部空間の容積を変化させる容積可変機構を有することを特徴とするレーザーアブレーション装置用の試料室。

IPC (3)：

G01N1/22 ,  G01N1/00 ,  G01N27/62

FI (3)：

G01N1/22 T ,  G01N1/00 101R ,  G01N27/62 F

F-Term (13)：

2G052AD26 ,  2G052AD32 ,  2G052AD42 ,  2G052CA03 ,  2G052CA04 ,  2G052CA14 ,  2G052DA13 ,  2G052EB01 ,  2G052EB02 ,  2G052EB11 ,  2G052FD07 ,  2G052GA24 ,  2G052JA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザアブレーション分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-292484   Applicant：日本電子株式会社