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J-GLOBAL ID：200903001272911438

酸性液漏れセンサ

Inventor： 上田 丈晴 ,  源島 康広 ,  辻川 知伸 ,  清川 一郎 ,  橋脇 正浩 ,  本圖 有
Applicant, Patent owner： オリジン電気株式会社 ,  株式会社NTTファシリティーズ
Agent (6)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007213884
Publication number (International publication number)：2008010428
Application date： Aug. 20, 2007
Publication date： Jan. 17, 2008
Summary：

【課題】バッテリーなど、酸性液が充填されたデバイスからの液漏れを素早く検知することができる酸性液漏れセンサを提供する。【解決手段】第1の導電体22と、第2の導電体23と、第1の導電体22および第2の導電体23を被覆し、これらの間を電気的に絶縁状態にする電気絶縁材からなる被覆層24とを有し、前記電気絶縁材が、金属炭酸塩からなる体質顔料を有し、酸性液に反応して電気絶縁性が低下するものであるバッテリー液漏れセンサ20(酸性液漏れセンサ)。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

第1の導電体と、第2の導電体と、第1の導電体および第2の導電体を被覆し、これらの間を電気的に絶縁状態にする電気絶縁材とを有し、 前記電気絶縁材が、金属炭酸塩からなる体質顔料を有し、酸性液に反応して電気絶縁性が低下するものであることを特徴とする酸性液漏れセンサ。

IPC (1)：

H01M 10/48

FI (2)：

H01M10/48 P ,  H01M10/48 Z

F-Term (4)：

5H030AA06 ,  5H030AS03 ,  5H030FF42 ,  5H030FF67

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開昭53-075519
  
• フォトマスク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-367135   Applicant：東京プロセスサービス株式会社, 日本化研株式会社
• 酸溶解性ポリマーを用いた摂食性害虫駆除剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-063407   Applicant：保土谷化学工業株式会社
• 漏液検知線
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-360373   Applicant：タツタ電線株式会社

Cited by examiner (5)

• 特開昭53-075519
  
• 特開昭53-075519
  
• フォトマスク及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-367135   Applicant：東京プロセスサービス株式会社, 日本化研株式会社
• 酸溶解性ポリマーを用いた摂食性害虫駆除剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-063407   Applicant：保土谷化学工業株式会社
• 漏液検知線
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-360373   Applicant：タツタ電線株式会社