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J-GLOBAL ID：200903001287985179
基体の平坦化方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉浦 正知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994035344
Publication number (International publication number)：1995221067
Application date： Feb. 08, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：
【要約】【目的】 化学的機械研磨による基体の平坦化方法において、研磨工程におけるパターン依存性をなくし、また、スラリー溶液の使用効率を上げる。【構成】 グリセリン、または、アラビアゴムにグリセリンを添加した溶液等の高粘度溶液をスラリー溶液17に混合することにより研磨に用いるスラリー溶液17の粘度を調整して化学的機械研磨を行う。また、このとき、研磨装置の研磨パッド16直前でスラリー溶液17の粘度をモニターし、そのモニター結果に応じて制御系24により高粘度溶液の供給量を制御して粘度を最適値に保つようにする。
Claim (excerpt)：
化学的機械研磨法を用いて段差を有する基体を平坦化する工程を少なくとも1回以上有する基体の平坦化方法において、化学的機械研磨に用いられるスラリー溶液の粘度を調整して化学的機械研磨を行うようにしたことを特徴とする基体の平坦化方法。
IPC (3)：
H01L 21/306
, B24B 37/04
, H01L 21/304 321
