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J-GLOBAL ID：200903001289249917

有機ハロゲン化合物汚染物の浄化方法

Inventor： 下村 達夫 ,  片岡 直明
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998223128
Publication number (International publication number)：1999197645
Application date： Aug. 06, 1998
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】 炭素源と還元剤を用いる還元脱ハロゲン反応による前記汚染物の浄化方法において、前記汚染物中に含まれる酸素、硝酸、硫酸等の酸化物や酸により金属粉末の還元力が無駄に消耗することを防ぎ、経済的かつ効率的に脱ハロゲン化を行う方法を提供する。【解決手段】 有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に還元剤及び微生物の増殖基質である可溶性の有機炭素源を添加し、中性条件下で、該汚染物の温度を17°C以上60°C以下の温度の状態に少なくとも最初の数日間維持することを特徴とし、前記可溶性の有機炭素源が、糖類、有機酸または有機酸塩、アルコール、有機性廃液のいずれか又はその混合物であることが好ましい。

Claim (excerpt)：

有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に還元剤及び微生物の増殖基質である可溶性の有機炭素源を添加し、中性条件下で、該汚染物の温度を17°C以上60°C以下の温度の状態に少なくとも最初の数日間維持することを特徴とする有機ハロゲン化合物汚染物の浄化方法。

IPC (6)：

B09C 1/10 ZAB ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  C02F 3/00 ZAB ,  C02F 11/02 ZAB

FI (5)：

B09B 3/00 ZAB E ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 3/00 ZAB D ,  C02F 11/02 ZAB ,  B09B 3/00 304 K