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J-GLOBAL ID:200903001293599043

電子ビーム照射用の熱陰極およびその熱陰極の製造方法およびその熱陰極を用いた電子ビーム加工装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994170933
Publication number (International publication number):1995094072
Application date: Jul. 22, 1994
Publication date: Apr. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】 熱陰極の加熱温度を約1500°C〜1800°C程度で、かつ、10-2〜10-3Pa程度の低真空雰囲気中で電子ビームを安定に照射する。【構成】 2400°C以上の融点を有する金属、または、その金属を主成分とする合金、または、その金属の炭化物、または、その金属のホウ化物、または、ジルコニウムの炭化物、または、ジルコニウムのホウ化物のうち選ばれた少なくとも1種の耐イオン衝撃性高融点耐熱物質2と、ランタン、イットリウム、セリウム、セシウムから選ばれた少なくとも1種のホウ化物または酸化物から選ばれた低仕事関数を有する電子放射物質3とを加熱・加圧によって一体化した熱陰極1を電子ビーム加工装置に用いる。
Claim (excerpt):
2400°C以上の融点を有する金属、または、その金属を主成分とする合金、または、その金属の炭化物、または、その金属のホウ化物、または、ジルコニウムの炭化物、または、ジルコニウムのホウ化物のうち選ばれた少なくとも1種の耐イオン衝撃性高融点耐熱物質と、ランタン、イットリウム、セリウム、セシウムから選ばれた少なくとも1種のホウ化物または酸化物から選ばれた低仕事関数を有する電子放射物質とを含み一体化したことを特徴とする熱陰極。
IPC (3):
H01J 1/14 ,  H01J 9/04 ,  H01J 37/30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特公昭55-005660
  • 特開平3-055739
  • 特開昭57-063744
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