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J-GLOBAL ID：200903001293868290

投影露光装置

Inventor： 塘 洋一
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992143762
Publication number (International publication number)：1993315226
Application date： May. 11, 1992
Publication date： Nov. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 縮小投影露光装置(ステッパ)の光源面の形状を変化させる変形証明法において、レチクル・パターンのピッチへの解像力の依存性を軽減する。【構成】 i線ステッパの投影光学系中の開口絞りの位置、たとえばフライアイレンズの後段に、遮光部から透明部へ向けて光透過率分布有するフィルタを配する。たとえば輪帯照明用のフィルタ1では、ガラス板5の中央の遮光部4から外周側の透明部へ向けて連続的に光透過率が増大している。輪帯照明法では、0次光と+1次回折光が縮小投影レンズの中心線に対してなす角度が等しくなる場合に焦点深度が増大する。上記フィルタ1によれば、透明部から大きな入射角で入射する0次光は微細なパターンの解像に寄与し、中間的な光透過率を有する領域を透過してやや小さな入射角で入射する0次光は粗いパターンの解像に寄与する。

Claim (excerpt)：

投影光学系により基板上にレチクルのパターンを投影する投影露光装置において、前記投影光学系中の開口絞りの位置に遮光部と透明部との間で所定の光透過率分布を有するフィルタが配設されていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08

FI (2)：

H01L 21/30 311 W ,  H01L 21/30 311 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-091662
  
• 投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-349162   Applicant：株式会社東芝