Pat
J-GLOBAL ID：200903001296158323

記録装置および塗布装置

Inventor：
尾形 隆雄

About 尾形 隆雄

, 
竹腰 信彦

About 竹腰 信彦

, 
永井 肇

About 永井 肇


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006131864
Publication number (International publication number)：2007301815
Application date： May. 10, 2006
Publication date： Nov. 22, 2007
Summary：
【課題】記録媒体に処理液を塗布する塗布部において、処理液の蒸発、揮発および乾燥等に起因する処理液の増粘を抑制することができる記録装置および塗布装置の提供。【解決手段】前処理や後処理を行う塗布部は、記録媒体に処理液を塗布する塗布ローラ71Aと、ローラ71Aに処理液を塗布するための2つの多孔質体100A、100Bとを具える。多孔質体100A、100Bは密度が異なり、密度の低い多孔質体100Bとローラ71Aとが接触することにより、処理液をローラ71Aの外周面に供給する。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
記録媒体に記録を行う記録部と、処理液を記録媒体に塗布する塗布部とを具える記録装置において、 前記塗布部は、前記記録媒体に前記処理液を塗布する塗布ローラと、前記塗布ローラの外周面に毛管力を利用して前記処理液を供給する処理液供給体とを具え、 前記処理液供給体は、毛管力が異なる2以上の処理液供給部材を含み、少なくとも毛管力が小さい前記処理液供給部材が前記塗布ローラの外周面に接触する ことを特徴とする記録装置。
IPC (4)：
B41J 2/01 ,  B05C 1/02 ,  B05C 5/00 ,  B05C 11/105
FI (4)：
B41J3/04 101Z ,  B05C1/02 102 ,  B05C5/00 101 ,  B05C11/105
F-Term (18)：
2C056EA04 ,  2C056EA24 ,  2C056EC14 ,  2C056FA10 ,  2C056HA42 ,  2C056HA44 ,  4F040AA02 ,  4F040AB20 ,  4F040AC01 ,  4F040BA12 ,  4F040CB21 ,  4F041AA02 ,  4F041BA10 ,  4F041BA13 ,  4F042AA02 ,  4F042CB01 ,  4F042CB07 ,  4F042CB24
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM