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J-GLOBAL ID：200903001298194378

投影露光装置

Inventor： 谷口 哲夫
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995247268
Publication number (International publication number)：1997092601
Application date： Sep. 26, 1995
Publication date： Apr. 04, 1997
Summary：

【要約】【課題】 対称性のないランダムな像歪みが残留する投影露光装置と混用される場合でも、高い重ね合わせ精度を得る。【解決手段】 レチクルRと投影光学系PLとの間に透明な補正板8を配置する。補正板8は交換装置21により挿脱自在に設けられており、必要に応じ保管庫23に保管された他の補正板24a〜24c等と交換可能に構成する。補正板8はランダムなディストーションが補正できるように研磨加工されており、この補正板8が使用されている投影露光装置のランダムなディストーションを補正する。更に、前の露光工程で使用された投影露光装置28又は後の工程で使用される投影露光装置29の像歪特性に合わせて、補正板を選択して投影像の像歪みを補正して、2層間での重ね合わせ精度を良好にする。

Claim (excerpt)：

マスク上のパターンを投影光学系を介して感光基板上に投影露光する投影露光装置において、前記マスクと前記投影光学系との間に前記感光基板に対して露光を行う他の露光装置の像歪み特性に応じた像歪みを発生させる光学部材を設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G02B 9/00 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 514 A ,  G02B 9/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A