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J-GLOBAL ID：200903001330794587

スルホニウム塩化合物、フォトレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000332968
Publication number (International publication number)：2001294570
Application date： Oct. 31, 2000
Publication date： Oct. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 波長220nm以下の紫外光に対して透明性が良く、かつ光反応効率(光酸発生効率)が高く、130〜220nmの波長の露光に対応した化学増幅型レジスト材料に利用される新規な光酸発生剤の提供。【解決手段】 本発明の光酸発生剤は、下記一般式(I):【化1】(式中、R1、R2はそれぞれ独立に、直鎖または分枝のアルキル基、単環式または橋架け環式の環状アルキル基、または、R1とR2が互いにつながり環を形成した基あるいは前記環上にオキソ置換された基、R3、R4、R5、R6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、Xは-CH2-、-C2H4-または-OCH2-、Y-は対イオンを表す)で示されるスルホニウム塩化合物である。

Claim (excerpt)：

一般式(I):【化1】(式中、R1、R2は、それぞれ独立に、直鎖のアルキル基、分枝のアルキル基、単環式の環状アルキル基および橋架け環式の環状アルキル基からなる群から選択される基、または、前記の飽和炭素骨格を有するR1、R2が互いにつながり環を形成した基、あるいは、R1、R2が互いにつながり環を形成し、さらにオキソ置換がなされた基であり、R3、R4、R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルキル基、アルコキシ基からなる群から選択される基であり、Xは、-CH2-、-C2H4-、-OCH2-(但し、-OCH2-はオキシ基とベンゼン環が結合する)からなる群から選択される基であり、Y-は対イオンを表す)で示されるスルホニウム塩化合物。

IPC (8)：

C07C381/12 ,  C07D311/22 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8)：

C07C381/12 ,  C07D311/22 ,  C07D333/46 ,  C07D335/02 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (17)：

2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  4C023JA05 ,  4C062EE44 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92