N,N-二置換スルホンアミド化合物およびその化合物を使用して製造された放射線感応性混合物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993311775
Publication number (International publication number)：1994263716
Application date： Dec. 13, 1993
Publication date： Sep. 20, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】オフセット印刷板およびフォトレジストの製造に特に好適である化合物ならびにその混合物の提供。【構成】一般式R1 [-N(CO-OR2 )-SO2 -R3 ]n (I)またはR1 [-SO2 -N(CO-OR2 )-R3 ]n (II)のN,N-二置換スルホンアミド化合物ならびに、a)化学線放射の影響下で酸を形成する化合物、b)酸により開裂し得る化合物であって、その開裂生成物その出発化合物よりが水性-アルカリ性現像剤中で高い溶解性を有する化合物、およびc)水には不溶であるが、アルカリ水溶液中に可溶であるか、または少なくとも膨潤し得る重合体バインダーを含む放射線感応性混合物であって、化合物b)が一般式IまたはIIのスルホンアミド化合物である混合物。一般式IとIIの化合物の具体例にはそれぞれN-メチル-N-t-ブチルオキシカルボニル-p-トリルスルホンアミドと4,4′-ビス(N-n-プロピル-N-t-ブチルオキシカルボニル-スルホンアミド)ビフェニルがある。

Claim (excerpt)：

式R1 [-N(CO-OR2 )-SO2 -R3 ]n (I)またはR1 [-SO2 -N(CO-OR2 )-R3 ]n (II)のN,N-二置換スルホンアミド(式中、R1 は、n=1に対しては、(C1 〜C20)アルキル、(C3 〜C10)シクロアルキル、(C6 〜C14)アリールまたは(C7 〜C20)アラルキル基であり、アルキルを含む基中の個々のメチレン基は所望によりヘテロ原子により置換されており、n=2、3または4に対しては、(C1 〜C20)アルカンまたは(C5 〜C7 )シクロアルカンのn価の基であり、n価の(C3 〜C20)アルカン基中の個々のメチレン基は所望によりヘテロ原子により、(C5 〜C7 )シクロアルキレン基により、またはフェニレンにより置換されているか、あるいは非縮合または縮合の単核または多核(C6 〜C18)芳香族化合物のn価の基であり、R2 は(C3 〜C11)アルキル、(C3 〜C11)アルケニルまたは(C7 〜C11)アラルキル基であり、R3 は非置換または置換(C1 〜C6 )アルキル、(C3 〜C6 )シクロアルキル、(C6 〜C14)アリールまたは(C7 〜C20)アラルキル基であり、nは1〜4の整数である。)

IPC (4)：

C07C311/16 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

特開昭63-221177
特開昭54-117026
N,N-二置換スルホンアミド懸垂基を有する重合体およびその使用
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-311773 Applicant：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

Chemical Abstracts, (1987), Vol.107, abstract No.77391
Chemical Abstracts, (1989), Vol.111, abstract No.57211

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