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J-GLOBAL ID:200903001340913126

殺菌装置付複合音波発生噴流式水の酸化還元電位および溶存ガス制御方法及び制御装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井上 重三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994307052
Publication number (International publication number):1996141561
Application date: Nov. 17, 1994
Publication date: Jun. 04, 1996
Summary:
【要約】【目的】 所望の値に酸化還元電位、溶存酸素量を変化させた水が無薬品で得られ、しかも取扱い、維持管理が簡単な装置を提供する。【構成】 密閉型タンク13に注入した水滞留室15内の水に対し、複合音波発生噴流式水ガス混合装置8により、空気又は酸素の噴射と音波の照射とを同時に行うことにより水の酸化還元電位が変化し、その値は密閉型タンク13底部付近に配置した酸化還元電位センサ12により検出され、酸化還元電位指示調整器10に入力され、その結果、空気又は酸素の噴出量、音波発生量、水の噴出量がそれぞれ適正量に調整し制御され、所望の酸化還元電位とし、また、密閉型タンク13内のガス滞留室14内の空間に、N2 ガスを加圧注入して所定時間放置することで溶存酸素量を制御された処理水を得ることができる。
Claim (excerpt):
給水手段、処理水取出し手段を備え、密閉可能なタンクと、前記タンク内に所定量給水された水を導入、噴出して循環させるポンプと、前記タンク内において、前記ポンプの噴出する水と、タンク外部から供給される空気または酸素とを混合させる噴流式ガス水混合装置と、前記タンク中の水に対して音波を照射する装置と、前記タンク中の水と接する空間に所定種類のガスを供給加圧する装置とを備えることを特徴とする殺菌装置付複合音波発生噴流式水の酸化還元電位および溶存ガス制御装置。
IPC (2):
C02F 1/34 ,  C02F 1/00

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