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J-GLOBAL ID：200903001341040380

リソグラフィー用ペリクル

Inventor： 浜田 裕一 ,  永田 愛彦 ,  白崎享 ,  樫田周 ,  久保田 芳宏
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 山本 亮一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993075671
Publication number (International publication number)：1994289599
Application date： Apr. 01, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明はLSI、超LSIなどの半導体装置あるいは液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、長寿命で性能のよいリソグラフィー用ペリクルの提供を目的とするものである。【構成】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、フッ素系有機物からなるペリクル膜を、常温で固体状のフッ素系有機物と常温で液体状のフッ素系有機物との混合物からなる接着剤で、ペリクル枠に接着してなることを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

フッ素系有機物からなるペリクル膜を、常温で固体状のフッ素系有機物と常温で液体状のフッ素系有機物との混合物からなる接着剤でペリクル枠に接着してなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。

IPC (2)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027