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J-GLOBAL ID:200903001348222831
樹脂組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大垣 孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993298576
Publication number (International publication number):1995152156
Application date: Nov. 29, 1993
Publication date: Jun. 16, 1995
Summary:
【要約】【目的】 後重合を防止出来、かつ、少なくとも従来と同程度の感度を有する樹脂組成物を提供することを目的とする。【目的】 下記(9)式で示され、重量平均分子量が10,000でかつ末端がOH基であるポリ(ジ-t-ブトキシシロキサン)190g(1mol)と、架橋剤としてヘキサ(t-ブトキシ)シロキサン10.1g(0.02mol)と、酸発生剤として、トリフェニルスルホニウムトリフタレート(Ph3 S+ OTf- )8.25g(0.02mol)とを、モノクロロベンゼン1780gに溶解して樹脂組成物を調製する。【化7】
Claim (excerpt):
下記(1)式で示されるポリ(シロキサン)誘導体及び下記(2)式で示されるポリ(シロキサン)誘導体のいずれか1種又はこれらの共重合体と、架橋剤と、露光によって酸を発生する酸発生剤とを含むことを特徴とする樹脂組成物(ただし、式中R1 、R2 、R3 、R4 はアルキル基を示し、同一でも異なっていても良い。また、m,nは正の整数を示す。)。【化1】
IPC (4):
G03F 7/075 511
, G03F 7/004 503
, G03F 7/029
, H01L 21/027
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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レジスト組成物及びそれを用いるパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-063341
Applicant:富士通株式会社
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特開平4-366958
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特開平2-108053
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特開平4-107561
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レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-208302
Applicant:富士通株式会社
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特開平4-123061
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放射線感応性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-017588
Applicant:沖電気工業株式会社
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特開平4-070662
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特開昭63-077050
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