Pat
J-GLOBAL ID:200903001355852239

熱処理雰囲気の製造方法及びその方法の制御方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997105033
Publication number (International publication number):1998046234
Application date: Apr. 22, 1997
Publication date: Feb. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】 その品質が正確に制御された熱処理雰囲気を発生させるための改良された方法を提供すること。【解決手段】 触媒反応器16内における酸素を含有する第1気体混合物2/3と炭化水素を含有する第2気体混合物4との反応により熱処理雰囲気を製造するための方法であって、a)触媒反応器の出口において入手される熱処理雰囲気の圧力を連続的に測定する工程と、b)工程a)で行なわれた圧力測定値を、設定圧力Pc と比較する工程と、c)工程b)において行なわれた比較の結果に基づいて、もし必要ならば、反応器出口における熱処理雰囲気の圧力が設定点レベルPc に戻るように、触媒反応器への入口に到達する第1気体混合物及び/又は第2気体混合物のそれぞれの流速に対して必要に応じてフィードバックを行う工程とを具備する方法。
Claim (excerpt):
触媒反応器内における酸素を含有する第1気体混合物及び炭化水素を含有する第2気体混合物の触媒反応により熱処理雰囲気を製造するための方法であって、少なくとも1つの使用場所を具備する使用者サイトへ前記雰囲気を供給することを目的とするものにおいて、a)前記反応器出口において得られる前記熱処理雰囲気の圧力を連続的に測定する工程と、b)工程a)の間に行なわれた前記圧力測定値を、設定圧力Pc と比較する工程と、c)工程b)の間に行なわれた比較の結果に従って、もし必要ならば、前記反応器出口における前記熱処理雰囲気の圧力が前記設定レベルPc に戻るように、前記触媒反応器の入口に到達する第1気体混合物及び/又は第2気体混合物のそれぞれの流速に対して必要に応じてフィードバックを行う工程とを具備する方法。
FI (2):
C21D 1/76 J ,  C21D 1/76 R

Return to Previous Page