Pat

J-GLOBAL ID：200903001359912791

光学素子の製造方法

Inventor： 十川 文博 ,  堀 義和
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991275184
Publication number (International publication number)：1993113503
Application date： Oct. 23, 1991
Publication date： May. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 電子ビーム露光方法に関するものであり、電子ビームレジストの残膜量をほぼ連続的に精度よく制御する事ができ、回折効率の高い光素子を作製する事が可能な電子ビーム露光方法を提供する。【構成】 電子ビームの偏向量を離散的な値で制御するディジタル走査方式で、かつ塗りつぶし走査方式の電子ビーム露光方法において、走査間隔を変調することにより電子ビームのドーズ量を調整し、電子ビームレジストの残膜量をほぼ連続的に精度よく制御するので、回折効率の高い光素子を作製することが可能となる。

Claim (excerpt)：

電子ビームの偏向量を離散的な値で制御するディジタル走査方式で、かつ塗りつぶし走査方式の電子ビーム露光方法において、走査間隔を変調することにより電子ビームのドーズ量を調整し、電子ビームレジストの残膜量を制御する光学素子の製造方法。

IPC (5)：

G02B 5/18 ,  G02B 5/32 ,  G03F 7/20 504 ,  G03H 1/04 ,  H01L 21/027