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J-GLOBAL ID：200903001414521870

走査型露光装置

Inventor： 白石 直正
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997065316
Publication number (International publication number)：1998247618
Application date： Mar. 04, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 マスクステージ加速時のマスク(レチクル)の位置ずれに起因する露光不良の発生を未然に防止する。【解決手段】 主制御装置30により、レチクルパターンの露光のため、ステージ制御系21を介してレチクルステージRST、ウエハステージWSTの相対走査が行われるが、この相対走査の際のレチクルステージRSTとレチクルRとの相対位置関係がレチクルステージRST上に設けられた検出手段によって検出される。そして、両ステージの相対走査開始前と加速終了時とで検出手段の検出値が相互に異なる場合には、主制御装置30により露光が中断される。従って、レチクルステージ加速時のレチクルの位置ずれに起因する露光不良の発生が未然に防止される。

Claim (excerpt)：

マスクと感応基板とを投影光学系に対して所定の走査方向に相対移動させ、前記マスクに形成されたパターンの像を前記投影光学系を介して前記感応基板上に逐次露光転写する走査型露光装置であって、前記マスクを保持して所定の移動面上を前記走査方向に所定ストローク範囲で移動可能なマスクステージと;前記感応基板を保持して前記マスクステージの移動面とほぼ共役な面内を移動可能な基板ステージと;前記マスクステージと前記基板ステージとを同期して前記走査方向に相対移動させるステージ制御系と;前記マスクステージと前記マスクとの相対位置関係を検出する検出手段と;前記マスクパターンの露光のため、前記ステージ制御系を介して前記両ステージの相対走査を行なうとともに前記両ステージの相対走査開始前と加速終了時との前記検出手段の検出値が相互に異なる場合には、露光を中断する制御手段とを有する走査型露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521