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J-GLOBAL ID：200903001420822180

排ガス浄化用触媒の処理方法

Inventor： 森川 彰 ,  畑中 美穂 ,  須田 明彦 ,  曽布川 英夫 ,  杉浦 正洽
Applicant, Patent owner： 株式会社豊田中央研究所
Agent (1)： 大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001263061
Publication number (International publication number)：2003074334
Application date： Aug. 31, 2001
Publication date： Mar. 12, 2003
Summary：

【要約】【課題】粒成長によって永久劣化した貴金属を再び微粒子化して触媒の活性を回復させる。【解決手段】比表面積が10m2/g以上の塩基性酸化物を含む担体と担体に担持された貴金属とよりなり、排ガスに晒されて触媒性能が低下した触媒を 600°C以上の高温の酸化性雰囲気中で処理し、その後 800°C以下のストイキ雰囲気又は還元性雰囲気中で処理する。酸化処理では粒成長した貴金属が酸化されて担体との間に固相反応が生じ、担体表面に貴金属成分が濡れた状態となる。還元処理では担体表面に濡れた状態の貴金属成分の表面から還元反応が徐々に進行し、メタル状の貴金属が微粒子として析出する。

Claim (excerpt)：

比表面積が10m2/g以上の塩基性酸化物を含む担体と該担体に担持された貴金属とよりなる排ガス浄化用触媒の処理方法であって、排ガスに晒され触媒性能が低下した該触媒を 600°C以上の高温の酸化性雰囲気中で処理する酸化処理と、該酸化処理後の該触媒を 800°C以下のストイキ雰囲気又は還元性雰囲気中で処理する還元処理と、を行うことを特徴とする排ガス浄化用触媒の処理方法。

IPC (5)：

F01N 3/20 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/10

FI (6)：

F01N 3/20 E ,  F01N 3/10 A ,  B01D 53/36 K ,  B01D 53/36 104 A ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 H

F-Term (27)：

3G091AA02 ,  3G091AB03 ,  3G091BA07 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091GB03X ,  3G091GB04X ,  3G091GB10X ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB07 ,  4D048BA01Y ,  4D048BA03X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07Y ,  4D048BA08Y ,  4D048BA15Y ,  4D048BA18Y ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA33Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB02 ,  4D048BD02 ,  4D048EA04