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J-GLOBAL ID：200903001430608659

ガス導入配管装置

Inventor： 福田 航一 ,  福井 洋文 ,  岩崎 千里 ,  溝上 敏 ,  菅野 洋一 ,  村上 功一
Applicant, Patent owner： 株式会社フロンテック ,  大阪酸素工業株式会社 ,  株式会社本山製作所
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995092854
Publication number (International publication number)：1996288225
Application date： Apr. 18, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】 前プロセスでの使用ガスの次のプロセスでの使用ガス中への混入量を従来よりも著しく減少させることが可能なガス導入配管装置を提供すること【構成】 上流側端にガスを導入するためのガス導入口が形成され、下流側端にバルブを有する複数のガス導入ラインと、下流側端がユースポイントに連通し、ユースポイントにおいて使用される組成が異なる複数の使用ガスが順次通過する共通ガスラインと、を有し、前記ガス導入ラインのうち、混合しようとするガスを導入するためのガス導入ライン同士が、その下流側端において、混合部を形成して相互に接続され、前記共通ガスラインの上流側端は、前記混合部及び他のガス導入ラインの下流側端に接続されていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

上流側端にガスを導入するためのガス導入口が形成され、下流側端にバルブを有する複数のガス導入ラインと、下流側端がユースポイントに連通し、ユースポイントにおいて使用される組成が異なる複数の使用ガスが順次通過する共通ガスラインと、を有し、前記ガス導入ラインのうち、混合しようとするガスを導入するためのガス導入ライン同士が、その下流側端において、混合部を形成して相互に接続され、前記共通ガスラインの上流側端は、前記混合部及び他のガス導入ラインの下流側端に接続されていることを特徴とするガス導入配管装置。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  F16L 55/07

FI (2)：

H01L 21/205 ,  F16L 55/07 A