ポジ型化学増幅レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小栗昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001028336
Publication number (International publication number)：2002229190
Application date： Feb. 05, 2001
Publication date： Aug. 14, 2002
Summary：

【要約】【課題】高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかもPCD、PED安定性及び塗布性に優れたポジ型化学増幅レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (a)エネルギー線の照射により、直接的あるいは間接的にラジカル(A)を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(a)エネルギー線の照射により、直接的あるいは間接的にラジカル(A)を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 25/00 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 501 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/004 501 , C08K 5/00 , C08L 25/00 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 501 , H01L 21/30 502 R

F-Term (55)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CA00 , 2H025CA14 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BC111 , 4J002BC121 , 4J002BG031 , 4J002BG071 , 4J002BH011 , 4J002EB026 , 4J002EB106 , 4J002EB117 , 4J002EB126 , 4J002EC058 , 4J002ED058 , 4J002EE036 , 4J002EE038 , 4J002EE056 , 4J002EF036 , 4J002EH036 , 4J002EH148 , 4J002EJ026 , 4J002EL088 , 4J002EU027 , 4J002EU187 , 4J002EU217 , 4J002EV026 , 4J002EV046 , 4J002EV048 , 4J002EV208 , 4J002EV226 , 4J002EV227 , 4J002EV228 , 4J002EV237 , 4J002EV257 , 4J002EV267 , 4J002EV297 , 4J002EV307 , 4J002EV317 , 4J002EW046 , 4J002EX036 , 4J002GP03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ポジ型感光性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-230831 Applicant：富士写真フイルム株式会社
化学増幅系レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-236927 Applicant：日本合成ゴム株式会社
特開平4-349463

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