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J-GLOBAL ID:200903001448347372

有機薄膜形成装置及び有機材料の再利用方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石島 茂男 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996342653
Publication number (International publication number):1998168559
Application date: Dec. 06, 1996
Publication date: Jun. 23, 1998
Summary:
【要約】【課題】有機材料用蒸発源からの蒸気を遮蔽するためのシャッターに付着した有機材料を容易に回収することができる有機薄膜形成装置及び有機材料再利用方法を提供する。【解決手段】本発明の有機薄膜形成装置は、真空槽2中で有機材料14を蒸発させて基板上に有機薄膜を形成する有機材料用蒸発源3と、有機材料用蒸発源3から蒸発した有機材料14の蒸気を所定の蒸発速度が得られるまで遮蔽し封じ込めておくためのシャッター4とを有する。シャッター4に付着した有機材料14をヒーター5によって加熱して再蒸発させ、その蒸気を冷却媒体71が循環されるシュラウド7で冷却し、収容部70に捕獲収容する。本発明によれば、純度の高い有機EL素子形成用の有機材料を再利用することができる。
Claim (excerpt):
真空槽中で所定の有機材料を蒸発させて基体上に有機薄膜を形成するための蒸発源と、該蒸発源から蒸発した上記有機材料の蒸気を所定の蒸発速度が得られるまで遮蔽し封じ込めておくためのシャッターと、該シャッターに付着した上記有機材料を加熱して再蒸発させるための加熱手段と、該シャッターから蒸発した上記有機材料を捕獲して収容する収容手段とを備えたことを特徴とする有機薄膜形成装置。
IPC (5):
C23C 14/12 ,  C09K 11/01 ,  C09K 11/06 ,  H01L 21/203 ,  H01L 51/00
FI (5):
C23C 14/12 ,  C09K 11/01 ,  C09K 11/06 Z ,  H01L 21/203 M ,  H01L 29/28
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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