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J-GLOBAL ID：200903001450929095

面位置設定装置

Inventor： 西 健爾
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993067271
Publication number (International publication number)：1994283403
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 スリットスキャン露光方式の投影露光装置において、感光基板の露光面を投影光学系の像面に対して高精度に合わせ込む。【構成】 スリット状の露光フィールド24に対してウエハをY方向に走査して露光を行う場合には、走査方向に対して手前の第2列25B内のサンプル点AF21〜AF29及び露光フィールド24内のサンプル点AF32〜AF38で得られたフォーカス位置の情報からウエハのレベリング及びフォーカシングの制御を行う。また、ウエハを-Y方向に走査して露光を行う場合には、走査方向に対して手前の第4列25D内のサンプル点AF41〜AF49及び露光フィールド24内のサンプル点AF32〜AF38で得られたフォーカス位置の情報からウエハのレベリング及びフォーカシングの制御を行う。

Claim (excerpt)：

露光光で所定形状の照明領域を照明する照明光学系と、前記照明領域に対して露光用のパターンが形成されたマスクを走査するマスク側ステージと、前記照明領域内の前記マスクのパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記マスクと同期して前記感光基板を走査する基板側ステージとを有する露光装置に設けられ、前記感光基板の露光面を前記投影光学系の像面に平行に合わせ込むための面位置設定装置であって、前記感光基板が走査される方向に交差する方向の複数の点を含む複数の計測点において前記感光基板の前記投影光学系の光軸に平行な方向の高さをそれぞれ計測する多点計測手段と、該多点計測手段の計測結果より前記感光基板の露光面と前記投影光学系の像面との間の傾斜角の差分を求める演算手段と、前記基板側ステージに設けられ、前記演算手段により求められた前記傾斜角の差分に基づいて、前記感光基板の前記走査の方向の傾斜角及び前記走査の方向に直交する方向の傾斜角を設定する傾斜設定ステージとを有し、該傾斜設定ステージが前記感光基板の前記走査の方向の傾斜角を設定するときの応答速度と、前記走査の方向に直交する方向の傾斜角を設定するときの応答速度とを異ならしめたことを特徴とする面位置設定装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平4-277612
  
• 特開平4-354320
  
• 特開平3-256317
  
• 特開平1-170022