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J-GLOBAL ID:200903001458585778
液晶表示装置用基板及び液晶表示装置の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
森岡 正樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003097371
Publication number (International publication number):2004302314
Application date: Mar. 31, 2003
Publication date: Oct. 28, 2004
Summary:
【課題】散乱反射面を形成する画素電極の凹凸を、パターニングすることなく形成する。【解決手段】基板3上に、熱硬化性の第1樹脂膜42及び熱硬化性の第2樹脂膜44を順次積層した積層絶縁膜58を形成し、第2樹脂膜44を第1樹脂膜42より硬化する第1硬化処理工程を経た後、積層絶縁膜58を第1及び第2樹脂膜42、44の硬化温度以上に加熱して硬化して、積層絶縁膜58の表面に凹凸を形成する第2硬化処理工程を行う。この第1の硬化処理は、例えば第1樹脂膜42の硬化温度未満での熱処理、又は第2樹脂膜44を選択的に硬化させるUV照射でなされる。【選択図】 図7
Claim (excerpt):
上面に凹凸を有する基板上に光を乱反射する画素電極が形成されている液晶表示装置用基板の製造方法において、
該基板上に、熱硬化性の第1樹脂膜及び熱硬化性の第2樹脂膜が順次積層された積層絶縁膜を形成する工程と、
次いで、該第2樹脂膜を該第1樹脂膜よりも硬化する第1硬化処理工程と、
次いで、該積層絶縁膜を該第1及び該第2樹脂膜の硬化温度以上に加熱して硬化することで、該積層絶縁膜の表面に凹凸を形成する第2硬化処理工程とを含むことを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法。
IPC (4):
G02F1/1333
, H01L21/312
, H01L21/336
, H01L29/786
FI (5):
G02F1/1333 500
, H01L21/312 M
, H01L29/78 612D
, H01L29/78 619A
, H01L29/78 616T
F-Term (59):
2H090JB02
, 2H090JC03
, 2H090JC07
, 2H090JC08
, 2H090LA04
, 2H090LA10
, 2H090LA16
, 2H090LA20
, 5F058AA03
, 5F058AA06
, 5F058AC07
, 5F058AD11
, 5F058AF04
, 5F058AG01
, 5F058AG03
, 5F058AH02
, 5F058AH05
, 5F110AA16
, 5F110AA30
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110DD02
, 5F110DD13
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110FF03
, 5F110FF30
, 5F110GG02
, 5F110GG15
, 5F110GG25
, 5F110GG45
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK06
, 5F110HK09
, 5F110HK16
, 5F110HK22
, 5F110HK35
, 5F110HK41
, 5F110HL03
, 5F110HL04
, 5F110HL11
, 5F110HL14
, 5F110HL27
, 5F110NN03
, 5F110NN04
, 5F110NN05
, 5F110NN24
, 5F110NN27
, 5F110NN35
, 5F110NN36
, 5F110NN40
, 5F110NN72
, 5F110NN73
, 5F110QQ01
, 5F110QQ10
, 5F110QQ12
Patent cited by the Patent: