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J-GLOBAL ID：200903001463953777

加工方法及び成形体

Inventor： 稗田 泰之 ,  浅川 鋼児 ,  平岡 俊郎 ,  内藤 勝之
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 松山 允之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001358296
Publication number (International publication number)：2003155365
Application date： Nov. 22, 2001
Publication date： May. 27, 2003
Summary：

【要約】【課題】 ブロックコポリマーの自己組織化より形成されるエッチングマスクを用いた微細加工技術において、十分なエッチング耐性を有し、しかも自己組織化により形成されるパターンを忠実に転写することができる加工方法及び成形体を提供することを目的とする。【解決手段】 第1のポリマー相(20A)と第2のポリマー相(20B)とが略規則的に配列した配列構造を有するブロックコポリマー層(20)を被加工体(10)の上に形成する工程と、前記第1のポリマー相を選択的に除去することにより前記ブロックコポリマー層の表面に凹部(R)を形成する工程と、前記凹部にマスク層(30)を設ける工程と、前記マスク層をマスクとして前記ブロックコポリマー層及び前記被加工体をエッチングすることにより、前記ブロックコポリマー層の前記配列構造に対応したパターンを前記被加工体に形成する工程を備えた加工方法を提供する。

Claim (excerpt)：

第1のポリマー相と第2のポリマー相とが略規則的に配列した配列構造を有するブロックコポリマー層を被加工体の上に形成する工程と、前記第1のポリマー相を選択的に除去することにより前記ブロックコポリマー層の表面に凹部を形成する工程と、前記凹部にマスク層を設ける工程と、前記マスク層をマスクとして前記ブロックコポリマー層及び前記被加工体をエッチングすることにより、前記ブロックコポリマー層の前記配列構造に対応したパターンを前記被加工体に形成する工程と、を備えたことを特徴とする加工方法。

IPC (8)：

C08J 7/04 CER ,  C08J 7/00 307 ,  G11B 5/851 ,  G11B 5/855 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065 ,  G03F 7/26 511 ,  C08L 53:00

FI (8)：

C08J 7/04 CER Z ,  C08J 7/00 307 ,  G11B 5/851 ,  G11B 5/855 ,  G03F 7/26 511 ,  C08L 53:00 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/302 H

F-Term (26)：

2H096AA25 ,  2H096BA09 ,  2H096HA30 ,  2H096KA19 ,  4F006AA58 ,  4F006AB73 ,  4F006CA02 ,  4F006DA01 ,  4F006EA03 ,  4F073AA06 ,  4F073BA34 ,  4F073BB09 ,  4F073CA49 ,  4F073CA51 ,  5D112AA05 ,  5D112AA16 ,  5D112FA04 ,  5D112GA18 ,  5D112GA20 ,  5F004BA04 ,  5F004DA26 ,  5F004DB01 ,  5F004DB08 ,  5F004EA04 ,  5F004EA08 ,  5F004EB08