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J-GLOBAL ID：200903001468098484

洗浄装置

Inventor： 藤戸 利昭 ,  川澄 建一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992057672
Publication number (International publication number)：1993259139
Application date： Mar. 16, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】オゾンガスに一定量の水分を含んだ混合ガスを安定して被処理物の表面に供給して洗浄性能を改善する。【構成】ランプハウス内に水蒸気添加装置を配置する。【効果】配管加熱装置を設けること無く安価にオゾンガスに混合した水蒸気が被処理物に供給する前に結露することなく一定量の水分を含んだ混合ガスを安定して被処理物の表面に供給でき洗浄性能が改善される。

Claim (excerpt)：

オゾンと紫外線の作用によって有機物を分解し、気化して除去する洗浄装置であって、オゾンを含む反応ガスにガス状の水を混合して被処理物の表面に供給するための水蒸気混合装置を紫外線光源を収納する容器内に備えたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 7/00 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027