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J-GLOBAL ID：200903001489964777

水洗除去容易な潤滑皮膜形成用潤滑剤組成物

Inventor： 荻野 陸雄 ,  森田 良治 ,  長谷部 昭彦
Applicant, Patent owner： 日本パーカライジング株式会社
Agent (1)： 山本 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992274865
Publication number (International publication number)：1994100877
Application date： Sep. 21, 1992
Publication date： Apr. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】 成形加工後水洗除去容易な潤滑皮膜を形成する組成物の提供。【構成】 (a)平均分子量30,000以上、500,000未満の水溶性ポリエステル類と水溶性多糖類から選ばれる少なくとも1種と、(b)水溶性ポリアミド類から選ばれる少なくとも1種と、(c)融点が50〜130°Cであるワックス類から選ばれる少なくとも1種と、及び(d)水とからなり、かつ(a)/(b)=50/1〜1/50の重量比であり、(c)の含有量が(a)+(b)合計100重量部に対し3〜90重量部である水洗除去容易な潤滑皮膜形成用潤滑剤組成物。【効果】 優れた潤滑性を有し、成形加工後水洗除去容易な潤滑皮膜が与えられる。

Claim (excerpt)：

(a)平均分子量30,000以上、500,000未満の水溶性ポリエステル類と水溶性多糖類から選ばれる少なくとも1種と、(b)水溶性ポリアミド類から選ばれる少なくとも1種と、(c)融点が50〜130°Cであるワックス類から選ばれる少なくとも1種と、及び(d)水とからなり、かつ(a)/(b)=50/1〜1/50の重量比であり、(c)の含有量が(a)+(b)合計100重量部に対し3〜90重量部であることを特徴とする水洗除去容易な潤滑皮膜形成用潤滑剤組成物。

IPC (9)：

C10M111/06 ,  C10M103:00 ,  C10M107:32 ,  C10M107:36 ,  C10M107:44 ,  C10M109:00 ,  C10N 30:00 ,  C10N 40:24 ,  C10N 50:08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開昭55-038840
  
• 特開昭53-044468
  
• 特開昭60-141796