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J-GLOBAL ID：200903001507647563

型及び成形方法

Inventor： 宮越 博史 ,  古田 和三 ,  増田 修
Applicant, Patent owner： コニカミノルタホールディングス株式会社
Agent (2)： 田村 敬二郎 ,  小林 研一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005229411
Publication number (International publication number)：2007044905
Application date： Aug. 08, 2005
Publication date： Feb. 22, 2007
Summary：

【課題】 適切な微細形状を樹脂素材に転写できる型及び成形方法を提供する。 【解決手段】 離型時における素材の最初の剥がれは、第1ダミー領域R1の外縁ORを形成する最小の半径r1の円弧上の点から始まり、その外縁ORの両方向と、第1ダミー領域R1の中心へ向かう方向に進行し、最終的には、使用領域R3を挟んで、第1ダミー領域R1と反対側にある第2ダミー領域R2内で終了させることができる。第2ダミー領域R2内で剥がれが必ず終了すれば、例えここで剥がれ不良が生じたとしても、使用領域3内には剥がれ不良が発生しないことになるので、使用領域R3の微細形状により転写形成された樹脂素材を用いて、良好な製品を得ることができる。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

常温での弾性率が1〜4(GPa)である素材に対して押しつけられる面に、アスペクト比が1以上である微細形状を形成した型であって、 前記微細形状は、前記型の面において、外縁がつながった使用領域と終了ダミー領域に少なくとも形成されており、 前記型の面を前記素材に押しつけたとき、前記使用領域に形成された微細形状により転写された微細形状は、前記素材において所定の機能を発揮するために用いられ、前記終了ダミー領域に形成された微細形状により転写された微細形状は、前記素材において少なくとも前記所定の機能を発揮するために用いられず、 前記型の面を押しつけ方向に見たときに、前記微細形状が形成された領域の外縁を形成する1又は2以上の円弧のうち最小の半径r1を有する円弧は、前記終了ダミー領域に基づいて決定される位置に配置されることを特徴とする型。

IPC (4)：

B29C 43/36 ,  B29C 33/42 ,  B29C 59/02 ,  G02B 1/02

FI (4)：

B29C43/36 ,  B29C33/42 ,  B29C59/02 B ,  G02B1/02

F-Term (23)：

4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AG19 ,  4F202AH75 ,  4F202AM32 ,  4F202AR12 ,  4F202CA09 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD23 ,  4F202CM90 ,  4F209AC03 ,  4F209AD08 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AH75 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  4F209PQ14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 微細形状を有する成形物、光学素子、成形方法及び成形装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-176963   Applicant：コニカミノルタホールディングス株式会社