Pat

J-GLOBAL ID：200903001511897370

レジスト塗布装置

Inventor： 熊谷 長久
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991271452
Publication number (International publication number)：1993109612
Application date： Oct. 18, 1991
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基板にレジストを回転塗布する装置の構造に関し、塗布膜厚さの均一性を良くし、且つ基板裏面へのレジストミスト付着を防止することを目的とする。【構成】 基板1の側方を包囲する内カップ14の底中央部に開口を設け、内カップ14内にはこの開口上方を包囲し且つ基板裏面周辺部に近接する整流リング16を配設する。内カップ14の外側には内カップ14の側面と底面に近接する外カップ17を配設する。内カップ14内を強制排気することにより、基板1上方の雰囲気を内カップ14と外カップ17との間隙を経由して基板1の裏面側に導くとともに、基板1裏面に沿って基板1の中心寄りから外周へ向かう気流を発生させる。

Claim (excerpt)：

基板(1) の表面にレジストを回転塗布する装置であって、該基板(1) の側方を包囲する内カップ(14)と、該内カップ(14)の外側で該内カップ(14)の側面と底面に近接する外カップ(17)とを有し、該内カップ(14)の底中央部には開口が設けられており、該内カップ(14)内にはリング状をなして該開口上方を包囲し且つ上面が該基板(1) 裏面周辺部に近接する整流リング(16)が固着されており、該内カップ(14)内を強制排気することにより、該基板(1) 上方の雰囲気を該内カップ(14)と該外カップ(17)との間隙を経由して該基板(1) の裏面側に導くとともに、該基板(1) 裏面に沿って該基板(1) の中心寄りから外周へ向かう気流を発生させるように構成されていることを特徴とするレジスト塗布装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-225268
  
• 特開平3-175617
  
• 特公昭53-037189