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J-GLOBAL ID：200903001514561429

プラズマCVD装置

Inventor： 本多 祐二 ,  荒木 智幸 ,  小林 巧
Applicant, Patent owner： 株式会社ユーテック
Agent (1)： 中川 國男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998163031
Publication number (International publication number)：1999335855
Application date： May. 27, 1998
Publication date： Dec. 07, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】分解清掃組み立て容易で、加工対象のワークに対する薄膜の形成に有効なプラズマCVD装置の提供。【解決手段】筒状のチャンバーブロック2の開口面に、電気絶縁状態として筒状のアノードブロック3、カソードブロック4を順次に着脱自在に取り付けて、密閉可能なプラズマ室5を形成し、それに成膜原料ガス6の供給ユニット7、減圧用の真空ユニット8を接続するとともに、室5の内部でブロック3の内側にリング状のアノード9を固定し、また、室5の内部でブロック4の中心位置にカソード10を固定し、その両端にカソード電源11を接続し、そのアース14側の一端とアノード9との間にアノード電源12を接続し、室5の内部でアノード9、カソード10に対向した状態で配置される加工対象のワーク13とアース14との間にイオン加速用電源15を接続した、プラズマCVD装置1。

Claim (excerpt)：

筒状のチャンバーブロック(2)の一方の開口面に、電気絶縁状態として筒状のアノードブロック(3)、カソードブロック(4)を順次に重ねて着脱自在に取り付けて、密閉可能なプラズマ室(5)を形成し、このプラズマ室(5)に成膜原料ガス(6)の供給ユニット(7)、減圧用の真空ユニット(8)を接続するとともに、プラズマ室(5)の内部で、アノードブロック(3)の内側にリング状のアノード(9)を固定し、またプラズマ室(5)の内部で、カソードブロック(4)の中心位置にカソード(10)を固定し、カソード(10)の両端にカソード電源(11)を電気的に接続し、カソード電源(11)のアース(14)側の一端とアノード(9)との間にアノード(9)側でプラス電位のアノード電源(12)を電気的に接続し、プラズマ室(5)の内部でアノード(9)、カソード(10)に対向した状態で配置される加工対象のワーク(13)とアース(14)との間にワーク(13)側でマイナス電位のイオン加速用電源(15)を電気的に接続したことを特徴とするプラズマCVD装置(1)。

IPC (4)：

C23C 16/50 ,  H05H 1/24 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/31

FI (4)：

C23C 16/50 ,  H05H 1/24 ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/31 C