Pat
J-GLOBAL ID:200903001517607225
眼科手術において眼圧を制御するための組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001250329
Publication number (International publication number):2002104970
Application date: Aug. 21, 2001
Publication date: Apr. 10, 2002
Summary:
【要約】【課題】 眼科手術における患者の眼圧を良好に維持するための医薬組成物を提供する。【解決手段】 患者の眼圧を良好に維持するために有効な量のプロスタグランジン化合物を含有する、眼内灌流液もしくは洗浄液を提供する。
Claim 1:
眼科手術に際して患者の眼圧を良好に維持するのに有効な量の式(I):【化1】(式中、W1、W2およびW3は炭素原子あるいは酸素原子、W1、W2またはW3が炭素原子である場合、L、MおよびNは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシ、ヒドロキシ(低級)アルキルまたはオキソ(ただし、LおよびMの基のうちの少なくとも1つは、水素以外の基であり、5員環は少なくとも1つの二重結合を有していてもよい);Aは、-CH2OH、-COCH2OH、-COOHまたはそれらの官能性誘導体;Bは、単結合、-CH2-、-CH2-CH2、-CH=CH-、-C≡C-、-CH2-CH2-CH2-、-CH=CH-CH2-、-CH2-CH=CH-、-C≡C-CH2-、または-CH2-C≡C-;Zは、【化2】(式中、R4およびR5は、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシまたはヒドロキシ(低級)アルキル。ただし、R4およびR5が同時にヒドロキシ、低級アルコキシおよび/またはヒドロキシ(低級)アルキルとなることはない);R1は、非置換またはハロゲン、オキソ、ヒドロキシ、低級アルキル、アリールまたは複素環で置換された、二価の飽和または不飽和の低〜中級の脂肪族炭化水素残基;および、Raは、非置換またはハロゲン、オキソ、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、シクロ(低級)アルキル、シクロ(低級)アルキルオキシ、アリール、アリールオキシ、複素環または複素環オキシで置換された、飽和または不飽和の低〜中級脂肪族炭化水素残基:シクロ(低級)アルキル基:シクロ(低級)アルキルオキシ基:アリール基;アリールオキシ基:複素環基:複素環オキシ基)の化合物を含有する、眼科手術において眼圧を良好に維持するための医薬組成物。
IPC (6):
A61K 31/5575
, A61K 9/08
, A61P 27/02
, A61P 27/06
, A61P 27/12
, A61P 41/00
FI (6):
A61K 31/5575
, A61K 9/08
, A61P 27/02
, A61P 27/06
, A61P 27/12
, A61P 41/00
F-Term (15):
4C076AA11
, 4C076BB24
, 4C076CC10
, 4C076DD80
, 4C076FF12
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086DA15
, 4C086MA01
, 4C086MA04
, 4C086MA17
, 4C086MA58
, 4C086NA14
, 4C086ZA34
, 4C086ZC12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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特開平2-000108
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特開平2-193924
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特表平5-505605
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特表平5-507928
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眼内灌流液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-103677
Applicant:千寿製薬株式会社
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Cited by examiner (13)
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特開平2-000108
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特開平2-193924
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特表平5-505605
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特表平5-507928
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眼内灌流液
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-103677
Applicant:千寿製薬株式会社
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特開平2-000108
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特開平2-193924
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特表平5-505605
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特表平5-507928
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特開平2-000108
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特開平2-193924
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特表平5-505605
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特表平5-507928
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Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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