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J-GLOBAL ID:200903001518107536
パターン形成したセラミックスグリーンシートの製造法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997141513
Publication number (International publication number):1998075039
Application date: May. 30, 1997
Publication date: Mar. 17, 1998
Summary:
【要約】【課題】微細な導体パターンが可能となり、かつ低抵抗の導体パターンが得られ、セラミックス多層基板の内層導体の形成を可能にする。さらにセラミックス多層基板の小形化、高密度化を一層可能にする。【解決手段】フィルム上に感光性導電ペーストを用いてパターンの表面状態が表面粗さ試験においてRa≦3μmであるパターンを形成した後、該パターンをセラミックスグリーンシート上に転写することを特徴とするパターン形成したセラミックスグリーンシートの製造法。
Claim (excerpt):
フィルム上に感光性導電ペーストを用いてパターンの表面状態が表面粗さ試験においてRa≦3μmであるパターンを形成した後、該パターンをセラミックスグリーンシート上に転写することを特徴とするパターン形成したセラミックスグリーンシートの製造法。
IPC (3):
H05K 3/20
, C04B 41/88
, H05K 1/09
FI (3):
H05K 3/20 A
, C04B 41/88 P
, H05K 1/09 D
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