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J-GLOBAL ID:200903001525030891
半導体装置及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
布施 行夫
, 大渕 美千栄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005000465
Publication number (International publication number):2006190746
Application date: Jan. 05, 2005
Publication date: Jul. 20, 2006
Summary:
【課題】 実装性に優れた半導体装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】 半導体装置は、配線基板10と、配線基板10の第1の面14に搭載された第1の半導体チップ20と、配線基板10と第1の半導体チップ20とを接着する、第1の半導体チップ20よりも大きい外形をなす第1の樹脂部30と、配線基板10の第2の面16に搭載された、第1の半導体チップ20よりも小さい第2の半導体チップ40と、配線基板10と第2の半導体チップ40とを接着する、第2の半導体チップ40よりも大きい外形をなす第2の樹脂部50とを有する。第1の半導体チップ20の外周から第1の樹脂部30の外周までの距離は、第2の半導体チップ40の外周から第2の樹脂部50の外周までの距離よりも長い。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
配線基板と、
前記配線基板の第1の面に搭載された第1の半導体チップと、
前記第1の面に形成されて前記配線基板と前記第1の半導体チップとを接着する、前記第1の半導体チップよりも大きい外形をなす第1の樹脂部と、
前記配線基板の第2の面に搭載された、前記第1の半導体チップよりも小さい第2の半導体チップと、
前記第2の面に形成されて前記配線基板と前記第2の半導体チップとを接着する、前記第2の半導体チップよりも大きい外形をなす第2の樹脂部と、
を有し、
前記第1の半導体チップの外周から前記第1の樹脂部の外周までの距離は、前記第2の半導体チップの外周から前記第2の樹脂部の外周までの距離よりも長い半導体装置。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-092609
Applicant:株式会社日立製作所
Cited by examiner (2)
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半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-121305
Applicant:沖電気工業株式会社
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両面実装構造体の製造方法及びその両面実装構造体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-166356
Applicant:松下電器産業株式会社
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