超臨界水中でのヘテロ原子減少条件下でのヘテロ原子減少方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995048308
Publication number (International publication number)：1995258655
Application date： Mar. 08, 1995
Publication date： Oct. 09, 1995
Summary：

【要約】【目的】非常に難分解性でグレードアップの難しいと考えられていた石炭やアスファルテン及び後記ビアリール結合を有するモデル化合物のような出発物質から芳香族ヘテロ原子含量の少なくより低分子量の価値の高い生成物を提供する。【構成】難分解性芳香環構造体のヘテロ原子除去向上性水素化方法であって、第一のヘテロアリール成分と、アリール成分及び第二のヘテロアリール成分から選ばれる1つの成分とを結ぶ少なくとも1つのアリール結合(ビアリール結合)を有する難分解性ル含有構造体を、約440°C〜約600°Cの温度を有する超臨界水及び約3.4MPa〜約18.6MPaのCOと接触させて芳香族ヘテロ原子含量の減った比較的低分子量の生成物を生成する前記方法。

Claim (excerpt)：

難分解性芳香環構造体のヘテロ原子除去向上性水素化方法であって、第一のヘテロアリール成分と、アリール成分及び第二のヘテロアリール成分から選ばれる1つの成分とを結ぶ少なくとも1つのアリール結合を有するビアリール含有構造体を、440°C〜600°Cの温度を有する超臨界水及び3.4MPa〜18.6MPaのCOと接触させて芳香族ヘテロ原子含量の減った比較的低分子量の生成物を生成する前記方法。

IPC (5)：

C10G 1/06 , C07C 1/00 , C07C 15/02 , C07B 37/00 , C10G 1/04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

特開昭51-073502
特開昭51-002702
特開昭59-078294

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