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J-GLOBAL ID：200903001549916807

基板処理装置

Inventor：
岩田 智巳

About 岩田 智巳

, 
三宅 孝志

About 三宅 孝志


Applicant, Patent owner：
大日本スクリーン製造株式会社

About 大日本スクリーン製造株式会社


Agent (1)： 福島 祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005095787
Publication number (International publication number)：2006278736
Application date： Mar. 29, 2005
Publication date： Oct. 12, 2006
Summary：
【課題】 基板の乾燥効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 オートフラップ機構400は、2つの支持部43a、回転軸43bおよび板状部材43cを備える。2つの支持部43aは、外槽43の内部で側壁から水平方向に突出するように形成されている。2つの支持部43a間に回転軸43bが取り付けられている。回転軸43bには、外槽43の側壁に沿うように、長手形状を有する板状部材43cが回転可能に取り付けられている。外槽43の底部には、処理液排出口44Xが形成されている。内槽40から溢れ出す処理液は、板状部材43cと内槽40の側壁との間の隙間Cおよび外槽43の処理液排出口44Xを通って処理液排出管44に流れる。内槽40から処理液が溢れ出す場合、オートフラップ機構400の板状部材43cは、処理液の流れに応じて回転軸43bを中心として回転する。それにより、板状部材43cの下端が外槽43の側壁の内面に当接する。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、 処理液を貯留する処理槽と、 前記処理槽内の処理液中と前記処理槽の上方位置との間で基板を昇降させる基板昇降手段と、 前記基板昇降手段により前記処理槽から引き上げられる基板に気体を供給する気体供給手段とを備え、 前記処理槽は、 前記処理液を貯留するとともに、基板を収納可能な内槽と、 前記内槽の周囲を取囲むように設けられ、前記内槽から溢れる処理液が流入する外槽と、 前記外槽内に流入した処理液を排出する処理液排出口と、 前記外槽内の少なくとも一部の領域において前記内槽の側壁に対向しかつ略水平方向の軸の周りで回動可能に設けられた遮蔽部材とを備え、 前記遮蔽部材は、前記気体供給手段から基板に気体が供給される間、前記内槽から前記外槽に流入した処理液の流れにより下端が前記外槽の側壁の内面側に回動して処理液を前記処理液排出口に案内することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2)：
H01L 21/304 ,  B08B 3/04
FI (3)：
H01L21/304 642A ,  H01L21/304 651L ,  B08B3/04 Z
F-Term (8)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB08 ,  3B201AB47 ,  3B201BB02 ,  3B201BB93 ,  3B201CC12 ,  3B201CD31
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
  • 基板処理装置および基板処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-162181   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-071146   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-179537   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
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