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J-GLOBAL ID：200903001551938150

結像特性計測方法及び該方法で使用されるマスク

Inventor： 蛭川 茂
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992264659
Publication number (International publication number)：1994120117
Application date： Oct. 02, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 計測マーク像の位置検出用のセンサーの分解能を特に向上させることなく、且つピッチの小さい実素子パターンに対する投影光学系の結像特性をも正確に計測する。【構成】 レチクル29上の計測マーク39Aを、それぞれ計測方向にピッチP2のライン・アンド・スペースパターンよりなる周期的パターン40A〜40CをピッチP1(P1>P2)で配列して形成する。投影光学系のディストーション計測時には、それら周期的パターン40A〜40Cの像をそれぞれ1個の暗線パターンの像として位置検出を行う。

Claim (excerpt)：

マスクに形成された計測用パターンの像を投影光学系を介して感光基板上に露光し、該露光された前記計測用パターンの像の計測方向の位置ずれ量を計測し、該計測された位置ずれ量より前記投影光学系の結像特性を計測する方法において、前記計測用パターンとして計測方向に共役な方向に所定ピッチで明部と暗部とが配列された周期的パターンを使用し、前記感光基板上に露光された前記周期的パターンの像の計測方向の位置ずれ量を計測する際に、前記周期的パターンの像を全体として1個の暗部よりなるパターンの像とみなして位置ずれ量を計測する事を特徴とする結像特性計測方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 9/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-294643
  
• 特開平2-214860
  
• 特開昭60-026343