Pat
J-GLOBAL ID：200903001557717147

紫外光線硬化性自己増感エポキシシリコーン及びその合成法

Inventor：
ロバート・フランシス・アガース

About ロバート・フランシス・アガース

, 
リチャード・ポール・エックバーグ

About リチャード・ポール・エックバーグ


Applicant, Patent owner：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

About ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ


Agent (1)： 松本 研一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000133932
Publication number (International publication number)：2001011185
Application date： May. 02, 2000
Publication date： Jan. 16, 2001
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 反応性エポキシ官能シリコーンの光触媒硬化をより迅速かつより効率的にするための系の提供。【解決手段】 式MDnDEm-pD*pMの光増感シリコーン。式中、MはR3SiO1/2及びR2ESiO1/2からなる群から選択される(ただし、Rは各々独立に炭素原子数1〜30の一価炭化水素基からなる群から選択され、Eは式C6H11O2のエポキシエーテル置換基の群又は式C8H13Oのアルキルシクロヘキセンオキシド置換基の群から選択されるエポキシド官能性置換基である。)。Dは式R2SiO2/2を表す。DEは式RESiO2/2。D*はDEと、R′COOH、(R′CO)2O、R′COX、R′SO3H及びR′SO2X(ただし、R′は光増感ナフタレン置換基であり、Xはハロゲンである。)からなる群から選択される化合物との反応生成物を表す。添字n、m及びpはn+m+pの和が約10〜約2000の範囲にある整数である。及び光増感シリコーンの製造方法。
Claim (excerpt)：
次式の光硬化性シリコーン。MDnDEm-pD*pM式中、MはR3SiO1/2及びR2ESiO1/2からなる群から選択されるものであり(ただし、Rは各々独立に炭素原子数1〜約30の一価アルキル炭化水素基、炭素原子数2〜約30の一価アルケニル炭化水素基、炭素原子数2〜約30の一価アルキニル炭化水素基、炭素原子数6〜約30の一価アリール炭化水素基、炭素原子数7〜約30の一価アルキルアリール炭化水素基、炭素原子数1〜約30の一価ハロゲン置換アルキル炭化水素基、炭素原子数2〜約30の一価ハロゲン置換アルケニル炭化水素基、炭素原子数2〜約30の一価ハロゲン置換アルキニル炭化水素基、炭素原子数6〜約30の一価ハロゲン置換アリール炭化水素基及び炭素原子数7〜約30の一価ハロゲン置換アルキルアリール炭化水素基からなる群から選択され、Eはエポキシド官能性置換又は非置換炭化水素基である。)、Dは式R2SiO2/2で表され(ただし、Rは上記で定義した通りであって各々独立に選択される。)、DEは式RESiO2/2で表され(ただし、Rは上記で定義した通りであり、Eはエポキシド官能性置換又は非置換炭化水素基である。)、D*は、DEと、R′COOH、(R′CO)2O、R′COX、R′SO3H及びR′SO2X(ただし、R′は光増感ナフチル基であり、Xはハロゲンである。)からなる群から選択される化合物との反応生成物として定義され、添字n、m及びpはn+m+pの和が約10〜約2000の範囲にある整数であって、かくして当該シリコーンは光増感性となる。
IPC (4)：
C08G 77/14 ,  C08G 59/20 ,  C08G 59/68 ,  C08G 77/38
FI (4)：
C08G 77/14 ,  C08G 59/20 ,  C08G 59/68 ,  C08G 77/38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM