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J-GLOBAL ID：200903001582556450

濃淡画像のパターンマッチング装置

Inventor： 河内 雅弘
Applicant, Patent owner： オムロン株式会社
Agent (1)： 鈴木 由充
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992185859
Publication number (International publication number)：1994004669
Application date： Jun. 19, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】パターンマッチングの対象画素を効率的に削減することにより、相関演算の計算量を減少して処理時間を短縮させる。【構成】モデルパターンの各構成画素の濃度データを2次微分し、さらにその2次微分値の絶対値をとる。この2次微分値の絶対値を所定のしきい値THと比較し、2次微分値の絶対値がしきい値THより大きな値をとる画素のみをパターンマッチングの対象画素として選択する。

Claim (excerpt)：

対象物のモデルパターンを用いて入力された濃淡画像のパターンマッチングを行う装置において、モデルパターンの各構成画素の濃度データを2次微分して得られた値の絶対値が所定のしきい値を越える画素をパターンマッチングの対象画素として選択する画素選択手段を備えて成る濃淡画像のパターンマッチング装置。

IPC (5)：

G06F 15/70 455 ,  G06F 15/70 320 ,  G06F 15/70 335 ,  G06K 9/36 ,  G06K 9/62