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J-GLOBAL ID：200903001602188916

位相変調装置及び位相変調方法

Inventor： 伊ケ崎 泰則 ,  福智 昇央
Applicant, Patent owner： 浜松ホトニクス株式会社
Agent (3)： 北澤 一浩 ,  小泉 伸 ,  市川 朗子
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2002011115
Publication number (International publication number)：WO2003036368
Application date： Oct. 25, 2002
Publication date： May. 01, 2003
Summary：

足し算部(60e)が、所望のCGHパターンをパターンメモリ部(60a)から読み出し、位相歪み補正用パターンを歪み補正用パターンメモリ部(60d)から読み出し、両者を足しあわせて、位相歪み補正済みパターンを作成する。制御部(60g)が、位相歪み補正済みパターンに基づいて、位相変調モジュール(40)を制御する。したがって、所望の位相パターンに基づく位相変調光を、精度よく、簡単かつ迅速に生成することができる。

Claim (excerpt)：

光を出力する光源(10)と、 所望の位相パターンと、該光の波面の歪みを補正するための波面歪み補正用位相パターンとを足し合わせ、歪み補正済み位相パターンを生成する足し算手段(60e)と、 該歪み補正済み位相パターンに基づいて該光を位相変調する電気アドレス型位相変調型空間光変調器(40)と、 を備えることを特徴とする位相変調装置。

IPC (1)：

G02B27/46

FI (1)：

G02B27/46