微細パターン形成方法、光学素子の製造方法、光学素子および光伝送装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松田正道
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000049194
Publication number (International publication number)：2001235646
Application date： Feb. 25, 2000
Publication date： Aug. 31, 2001
Summary：

【要約】【課題】微細で深くかつ表面に粗さのないパターン形成方法を提供することによって、性能、量産性、低コスト性を兼ね備えた光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】基板1の一部に、少なくとも一対の列を有するパターンのエッチングマスク2を形成する工程と、基板1にエッチングマスク2を用いてエッチングを行い、基板1上に少なくとも一対の断面凸型の列を有するパターンを形成する工程とを備え、前記一対の断面凸型の列に挟まれた領域に、断面凹型の溝を形成することを特徴とする微細パターン形成方法。

Claim (excerpt)：

基板の一部に、少なくとも一対の列を有するパターンのエッチングマスクを形成する工程と、前記基板に前記エッチングマスクを用いてエッチングを行い、前記基板上に少なくとも一対の断面凸型の列を有するパターンを形成する工程とを備え、前記一対の断面凸型の列に挟まれた領域に、断面凹型の溝を形成することを特徴とする微細パターン形成方法。

IPC (2)：

G02B 6/13 , G02B 6/122

FI (2)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 A

F-Term (6)：

2H047KA03 , 2H047PA24 , 2H047PA28 , 2H047QA04 , 2H047QA05 , 2H047TA43

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

ガーネット導波路の形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-102480 Applicant：日本電信電話株式会社
光導波路及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-260333 Applicant：日立電線株式会社
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Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-182726 Applicant：松下電器産業株式会社

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