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J-GLOBAL ID：200903001633837211

分子検出装置を用いた洗浄装置

Inventor： 宮島 欣幸 ,  藤 寛 ,  北澤 田鶴子
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 清水 敏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006272719
Publication number (International publication number)：2008086634
Application date： Oct. 04, 2006
Publication date： Apr. 17, 2008
Summary：

【課題】 溶液中に含まれた洗剤分子の濃度をより正確に検出し、高い洗浄効果とすすぎ効果とを実現できる洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄装置は、水受け槽内の洗浄液中の洗剤の濃度を検出するための洗剤センサ52と、洗剤センサ52からの検出結果に基づいて、注水弁、洗剤注入装置、排水弁、及び洗濯兼脱水槽を制御するための制御回路とを含む。洗剤センサ52は、第1の反射面を有するプリズム84と、プリズム84の第1の反射面上に形成された金属層86と、第1の反射面に関し、金属層86と反対側に、第1の反射面に全反射条件で光が入射する様に配置された光源80と、金属層86上に形成された疎水層90と、光源80により出射され、反射面によって反射された反射光に表面プラズモン共鳴により生ずる暗線の位置の変化を検出するための光検出器92とを含む。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

洗浄槽と、 前記洗浄槽に水を供給するための水供給手段と、 前記洗浄槽に洗剤を供給するための洗剤供給手段と、 前記洗浄槽内に配置された被洗浄物を、前記水供給手段により供給される水及び前記洗剤供給手段により供給される洗剤を混合して得られる洗浄液を用いて洗浄するための洗浄手段と、 前記洗浄槽内の洗浄液中の前記洗剤の濃度を検出するための分子検出装置と、 前記洗浄槽内の洗浄液を排出するための排出手段と、 前記分子検出装置からの検出結果に基づいて、前記水供給手段、前記洗剤供給手段、前記排出手段、及び前記洗浄手段を制御するための制御手段とを含み、 前記分子検出装置は、表面プラズモン共鳴を用いて両親媒性分子を検出する分子検出装置であって、 第1の反射面を有する透明基板と、 前記透明基板の前記第1の反射面上に形成された金属層と、 前記第1の反射面に関し、前記金属層と反対側に、前記第1の反射面に全反射条件で光が入射する様に配置された光源と、 前記金属層上に形成された疎水層と、 前記光源により出射され、前記反射面によって反射された反射光に表面プラズモン共鳴により生ずる暗線の位置の変化を検出するための検出手段とを含み、 前記分子検出装置は、前記洗浄槽内の、洗浄水が貯留される部位に前記疎水層が臨む様に配置されている、洗浄装置。

IPC (5)：

D06F 33/02 ,  G01N 21/27 ,  D06F 39/08 ,  A47L 15/46 ,  A47L 15/42

FI (8)：

D06F33/02 Q ,  G01N21/27 C ,  D06F33/02 G ,  D06F33/02 S ,  D06F33/02 N ,  D06F39/08 301R ,  A47L15/46 Z ,  A47L15/42 Z

F-Term (20)：

2G059AA01 ,  2G059AA10 ,  2G059BB06 ,  2G059CC12 ,  2G059CC20 ,  2G059EE02 ,  2G059GG01 ,  2G059HH02 ,  2G059HH06 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ13 ,  2G059KK03 ,  3B082DB03 ,  3B082DC01 ,  3B155AA17 ,  3B155AA21 ,  3B155KA15 ,  3B155KA23 ,  3B155KB14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 洗濯機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-008857   Applicant：株式会社東芝