酸素製造装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：鈴木崇生 , 梶崎弘一 , 尾崎雄三 , 谷口俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004255787
Publication number (International publication number)：2006071190
Application date： Sep. 02, 2004
Publication date： Mar. 16, 2006
Summary：

【課題】窒素製造プロセスにおける排出流体および副生流体を利用するとともに、もとの窒素製造プロセスに影響を与えることなく、有圧の液化酸素および酸素ガスを効率的に製造する装置を提供すること。【解決手段】酸素製造装置であって、(1)窒素製造装置の酸素リッチ液化空気の一部を、窒素精留塔または窒素精留塔コンデンサから抜き出して、下部にリボイラ9を有するサブ精留塔8中間段に導入し、(2)圧縮空気を前記サブ精留塔8の下部リボイラ9に導入して該リボイラ9で液化空気を生成し、その一部を前記窒素精留塔に戻すとともに、残りを前記サブ精留塔8の搭頂部に還流液として供給し、(3)前記サブ精留塔8下部から酸素を製造する、ことを特徴とする。【選択図】図2

Claim 1：

酸素製造装置であって、(1)窒素製造装置の酸素リッチ液化空気の一部を、窒素精留塔または窒素精留塔コンデンサから抜き出して、下部にリボイラを有するサブ精留塔中間段に導入し、(2)圧縮空気を前記サブ精留塔の下部リボイラに導入して該リボイラで液化空気を生成し、その一部を前記窒素精留塔に戻すとともに、残りを前記サブ精留塔の搭頂部に還流液として供給し、(3)前記サブ精留塔下部から酸素を製造する、ことを特徴とする酸素製造装置。

IPC (1)：

F25J 3/04

FI (1)：

F25J3/04 101

F-Term (4)：

4D047AA08 , 4D047AB01 , 4D047AB02 , 4D047DA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

特開昭54-163797号公報
実開昭55-140990号公報
特許第3203181号公報

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Cited by examiner (2)

低純度酸素製造のための極低温精留システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-190139 Applicant：プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド
特開昭60-038578

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