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J-GLOBAL ID：200903001698276497

カーボンナノチューブの評価方法

Inventor： 佐藤 義倫 ,  田路 和幸 ,  小倉 正平 ,  福谷 克之 ,  名村 優
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  国立大学法人 東京大学 ,  DOWAホールディングス株式会社
Agent (1)： 大川 浩一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009059160
Publication number (International publication number)：2009242231
Application date： Mar. 12, 2009
Publication date： Oct. 22, 2009
Summary：

【課題】カーボンナノチューブの特性を損なわずに、カーボンナノチューブの欠陥を簡単且つ確実に評価することができる、カーボンナノチューブの評価方法を提供する。【解決手段】カーボンナノチューブをエタノールなどの溶媒に入れて超音波で分散させ、このカーボンナノチューブを含む溶媒を金属基板にエアブラシなどで吹き付けた後に乾燥させることによって、金属基板に固定されたカーボンナノチューブに、H2やD2などの気体を吸着させた後、昇温させて昇温脱離スペクトルを測定し、得られた昇温脱離スペクトルのピーク温度やピーク形状に基づいて、カーボンナノチューブの欠陥を判断する。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

カーボンナノチューブに気体を吸着させた後、昇温させて昇温脱離スペクトルを測定し、得られた昇温脱離スペクトルのピーク温度およびピーク形状に基づいて、カーボンナノチューブの欠陥を評価することを特徴とする、カーボンナノチューブの評価方法。

IPC (3)：

C01B 31/02 ,  G01N 25/00 ,  G01N 27/62

FI (3)：

C01B31/02 101F ,  G01N25/00 A ,  G01N27/62 V

F-Term (41)：

2G040AA02 ,  2G040BA25 ,  2G040CB03 ,  2G040ZA01 ,  2G041BA02 ,  2G041CA01 ,  2G041FA03 ,  2G041FA14 ,  2G041GA03 ,  4G146AA12 ,  4G146AB06 ,  4G146AB07 ,  4G146AB08 ,  4G146AC03B ,  4G146AC08B ,  4G146AC15B ,  4G146AC16B ,  4G146AC28B ,  4G146AC30B ,  4G146AD20 ,  4G146AD24 ,  4G146AD26 ,  4G146AD29 ,  4G146AD32 ,  4G146AD35 ,  4G146BA01 ,  4G146BC09 ,  4G146BC17 ,  4G146BC23 ,  4G146BC27 ,  4G146BC38B ,  4G146BC42 ,  4G146BC44 ,  4G146CA02 ,  4G146CA03 ,  4G146CA08 ,  4G146CA15 ,  4G146CA17 ,  4G146CB10 ,  4G146CB17 ,  4G146CB40

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 水素の貯蔵またはスーパーバンドル形成のための単層カーボンナノチューブ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-553214   Applicant：ミッドウエストリサーチインスティチュート
• ナノチューブ膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-100019   Applicant：株式会社ノリタケカンパニーリミテド, 財団法人ファインセラミックスセンター

Cited by examiner (2)

• 水素の貯蔵またはスーパーバンドル形成のための単層カーボンナノチューブ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-553214   Applicant：ミッドウエストリサーチインスティチュート
• ナノチューブ膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-100019   Applicant：株式会社ノリタケカンパニーリミテド, 財団法人ファインセラミックスセンター

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• The oxidative opening and filling by hydrogen of single wall carbon nanotubes.

Cited by examiner (1)

• The oxidative opening and filling by hydrogen of single wall carbon nanotubes.