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J-GLOBAL ID：200903001712024633

X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置

Inventor： 大串 信明 ,  三宅 明 ,  渡辺 豊
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 藤元 亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001205319
Publication number (International publication number)：2003022950
Application date： Jul. 05, 2001
Publication date： Jan. 24, 2003
Summary：

【要約】【課題】 良好なデブリ除去と良好なEUV光の利用効率を両立することができるデブリ除去装置及び方法、並びに、当該デブリ除去装置を用いた露光装置を提供する【解決手段】 プラズマを発生し、X線を発生させるX線光源の前記X線の発光点で発生したデブリが光学系に到達することを防止するデブリ除去装置であって、前記光学系の光軸に平行もしくはほぼ平行な前記デブリを吸着する吸着面を含む吸着部と、前記発光点と前記光学系との間で、前記吸着部の吸着面を前記発光点を通る軸回りに回転させる回転部とを有するデブリ除去装置を提供する。

Claim (excerpt)：

プラズマを発生し、X線を発生させるX線光源の前記X線の発光点で発生したデブリが光学系に到達することを防止するデブリ除去装置であって、前記光源から放出される光線に平行もしくはほぼ平行な前記デブリを吸着する吸着面を含む吸着部と、前記発光点と前記光学系との間で、前記吸着部の吸着面を軸回りに回転させる回転部とを有し、前記吸着部は、発散光方向の長さd(m)のn枚のフィンからなり、前記回転部は、前記フィンを前記光軸周りに回転速度ω(rad/sec)で回転させ、速度vc=100(m/sec)のデブリが除去できるように、vc=100≦ndω/(2π)の関係が成立するデブリ除去装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  A61B 5/117 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 503

FI (5)：

G03F 1/16 A ,  G03F 7/20 503 ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 S ,  A61B 5/10 322

F-Term (9)：

2H095BA10 ,  2H097BA04 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  4C038FF01 ,  4C038FF05 ,  4C038FG00 ,  5F046GB07 ,  5F046GC03