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J-GLOBAL ID：200903001715833745
有機物除去装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992099065
Publication number (International publication number)：1993299401
Application date： Apr. 20, 1992
Publication date： Nov. 12, 1993
Summary：
【要約】【目的】半導体装置の製造過程において、半導体基板表面上の有機物を除去する工程において完全に除去することを目的とする。【構成】紫外線ランプ(以下UVランプと呼ぶ)6及び酸素供給管7、シャッター8を有するUVオゾン槽4を有機物除去槽の最終段に設置する。【効果】有機溶剤の入った槽1及び2で除去出来なかった微量の有機物も、完全に除去する事が可能となる。
Claim (excerpt)：
半導体基板表面上の有機物を溶剤によって溶かす手段と、前記溶かされた有機物をオゾンと反応させて除去する手段とを有することを特徴とする有機物除去装置。
Patent cited by the Patent：
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