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J-GLOBAL ID:200903001724273434
磁気記録媒体の製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宇高 克己
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996194351
Publication number (International publication number):1998041177
Application date: Jul. 24, 1996
Publication date: Feb. 13, 1998
Summary:
【要約】【課題】 支持体の厚さが薄い場合においても均一な磁性膜が得られ、そして成膜に際して支持体の走行性の低下や、支持体の熱による損傷を抑制できる磁気記録媒体の製造方法を提供することである。【解決手段】 磁性材料源に電子ビームを照射し、蒸発した粒子を走行する支持体上に斜め蒸着させることにより磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記支持体は厚さが2〜6μmであり、前記電子ビームの照射方向と前記支持体の走行方向とは逆方向であり、かつ、前記電子ビームの偏向角が60°〜95°である磁気記録媒体の製造方法。
Claim (excerpt):
磁性材料源に電子ビームを照射し、蒸発した粒子を走行する支持体上に斜め蒸着させることにより磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法であって、前記支持体は厚さが2〜6μmであり、前記電子ビームの照射方向と前記支持体の走行方向とは逆方向であり、かつ、前記電子ビームの偏向角が60°〜95°であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3):
H01F 41/20
, C23C 14/30
, G11B 5/85
FI (3):
H01F 41/20
, C23C 14/30 B
, G11B 5/85 A
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