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J-GLOBAL ID:200903001739159220

洗浄剤組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002288611
Publication number (International publication number):2004123590
Application date: Oct. 01, 2002
Publication date: Apr. 22, 2004
Summary:
【課題】ニキビ改善効果に優れ、、肌のざらつき、かさつき、くすみ、黒ずみ、毛穴ブツブツ、面皰などに対する改善効果があり、かつ優れた起泡力を有する洗浄剤組成物に関し、さらには経時での変色が極めて少ない洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】ヒドロキシピリドン誘導体と高級脂肪酸のトリエタノールアミン塩及び水膨潤性粘土鉱物0.5%以上を配合することにより、ニキビ改善効果に優れ、肌のざらつき、かさつき、くすみ、黒ずみ、毛穴ブツブツ、面皰などに対する改善効果があり、かつ優れた起泡力を有する洗浄剤組成物が得られることを見出した。さらに金属イオン封鎖剤を加えると、経時での着色が極めて少ない洗浄剤組成物が得られることを見出した。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
次の成分(A)及び(B)及び(C): (A) ヒドロキシピリドン誘導体、 (B) 高級脂肪酸トリエタノールアミン塩、(C)水膨潤性粘土鉱物0.5%以上、を含有する洗浄剤組成物。
IPC (4):
A61K7/50 ,  C11D1/04 ,  C11D3/12 ,  C11D3/28
FI (4):
A61K7/50 ,  C11D1/04 ,  C11D3/12 ,  C11D3/28
F-Term (71):
4C083AA112 ,  4C083AA122 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB352 ,  4C083AB432 ,  4C083AB441 ,  4C083AB442 ,  4C083AC102 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC182 ,  4C083AC241 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC392 ,  4C083AC402 ,  4C083AC472 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC541 ,  4C083AC542 ,  4C083AC552 ,  4C083AC562 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC812 ,  4C083AC851 ,  4C083AC852 ,  4C083AC902 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD222 ,  4C083AD282 ,  4C083AD512 ,  4C083AD532 ,  4C083CC22 ,  4C083CC23 ,  4C083DD21 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083DD41 ,  4C083EE07 ,  4C083EE12 ,  4C083EE13 ,  4C083EE14 ,  4H003AB03 ,  4H003AB46 ,  4H003DA02 ,  4H003EA27 ,  4H003EB07 ,  4H003EB08 ,  4H003EB16 ,  4H003EB20 ,  4H003EB24 ,  4H003FA07 ,  4H003FA18 ,  4H003FA21 ,  4H003FA33 ,  4H003FA34
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-404590   Applicant:ライオン株式会社
  • 特開昭63-139998
Cited by examiner (2)
  • 特開昭63-139998
  • 洗浄剤組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-404590   Applicant:ライオン株式会社

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